セラミック材料
ヒーター、静電チャックとモジュール
超高温下における熱均一性
半導体と化合物半導体向けヒーター製品の設計で40年以上もの実績を持つモメンティブ・テクノロジーズには、石英とウェハ処理装置の差別化をサポートできる態勢が整っています。 この経験をもとに、高温用途 (500℃以上)、均熱性の向上 (<2℃未満)、トータルコストなどを考慮しながら、それぞれの用途にあったサーマルソリューションを開発しています。
特徴と利点
- 耐熱衝撃性と熱的に安定した材料により、ヒーターの寿命を損なうことなく最高1500°Cまでの連続運転が可能
- 高速サイクル時間と100°C/秒を超える昇温速度により、高スループットと省電力を実現
- 複数ゾーンでの調整可能性、全体的な設計の多様性と3D機能により、優れたウェハの均熱性を実現
- 優れた電気抵抗率と抵抗率の調整機能により、高温下での静電チャックの統合が可能
主な用途
- イオン注入、スパッタ、蒸着、MBE、ALD、MOCVD、PECVD、RTP などの半導体製造装置
- 有機ED電極やCIGS太陽電池の処理装置などの金属蒸着と溶融金属の処理装置
- 高温ガラス成形
モメンティブ・テクノロジーズは、PBN/PGヒーター、TaCヒーター、ヒーターモジュール、サーマルレベラーを正確な熱、電力、サイズの仕様に合わせて製造しています。 フルサービスの分析ラボと専門エンジニアのチームがお客様と特定のアプリケーションに適したソリューションの設計をサポートいたします。
PBNヒーターと静電チャック (ESC)
PBN/PGヒーターは、1700℃以上の超高真空下にて優れた均熱性 (ウェハで2°C) で動作します。 高温での化学気相成長法による非常に純度の高い非脆性の耐火材料で、ほとんどの腐食性ガスや液体に対して化学的に不活性であるほか、ほとんどの溶融金属に影響を受けることもありません。 モメンティブ・テクノロジーズは、高温 (最高 1000°C) でのウェハハンドリングのニーズに合わせて、ヒーター機能付き静電チャック (ESC) をカスタム設計することもできます。
究極の耐熱性と耐薬品性
TaCコーティングされたグラファイトヒーターはより堅牢な加熱装置となるので、厳しい環境下でもヒーターの寿命が延び、機器のメンテナンスサイクルとコストが削減され、歩留まりを向上させます。 TaCヒーターは2200℃以上で安定し、H2、NH3、SiH4、CH4に対する耐性があります。
| 密度 (gm/cm3) | 放射率 | CTE (xl0-6/K) | 硬度 (HK) | 抵抗率 (Ohm-cm) | 耐熱性 | NH3でのエッチング速度 (µm/hr) | H2でのエッチング速度 (µm/hr) | 厚みのばらつき | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
TaC |
14.3 |
0.3 |
6.3 |
2000 |
1x10-5 |
>2200°C |
0.2 |
0.1 |
-5% |
|
SiC |
3.2 |
0.8 |
4.5 |
2800 |
2x10-3 |
<1600°C |
1.5 |
1.7 |
-10% |
典型的な値。
このチャートに記載の情報は、情報提供のみを目的としています。 この情報は、製品や材料を推奨するものではなく、特定の使用ケースやニーズに情報を適用する際には、お客様ご自身の専門知識と専門的な判断を用いていただくことを明示的な条件として、お客様に提供されています これは一般的な情報のみであり、その有効性は、モメンティブ・テクノロジーズが把握していない個々の要因によって影響を受ける可能性があります。 この情報を使用する方は、特定の状況に関して適切な解釈と適用を行う責任があります。
サーマルレベラー
独自のTPG (熱分解グラファイト、1500W/mK) ベースのレベラーは、新しいモジュール/ペデスタルの均一性を大幅に改善するか、既存のペデスタルの均一性をドロップインでアップグレードします。 航空宇宙事業や軍事市場に熱管理用ヒートシンクを提供してきた数十年の経験と、半導体ヒーター市場に関する独自の知識を組み合わせ、当社独自のサーマルレベラーは3倍の均一性を実現しています。 また、既存の加熱処理装置と連携して、歩留まりやスループットを向上させることができます。
モジュール
PBNヒーターや静電チャックを含むカスタマイズされたプラグアンドプレイの統合モジュールは、優れた均熱性、高スループット、長寿命を提供し、メンテナンスもより簡単です。
